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更新日期:2024-03-23
簡(jiǎn)要描述:
日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3Transpector XPR3 是基于四極桿的下一代高壓過程監(jiān)測(cè)器。 盡管外觀緊湊(總長(zhǎng)度 237 mm),但它可以在從 2.6 Pa 到高真空的寬范圍內(nèi)使用。 不需要大型復(fù)雜的差速排氣裝置。
品牌 | 其他品牌 | 儀器種類 | 在線式 |
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產(chǎn)地 | 進(jìn)口 |
日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3
Transpector XPR3 是基于四極桿的下一代高壓過程監(jiān)測(cè)器。 盡管外觀緊湊(總長(zhǎng)度 237 mm),但它可以在從 2.6 Pa 到高真空的寬范圍內(nèi)使用。 不需要大型復(fù)雜的差速排氣裝置。
特點(diǎn)
●重新設(shè)計(jì)的離子源減少了污染物的影響,延長(zhǎng)了使用壽命,并提供清晰的信號(hào)來(lái)自雙離子源的一個(gè)離子流被送入四極桿過濾器進(jìn)行分壓測(cè)量,另一個(gè)離子流被發(fā)送到全壓收集器。 這使得連續(xù)的總壓力測(cè)量具有比離子堿更高的精度。 這改善了高壓范圍內(nèi)的靈敏度損失,并以1.1 Pa為單位實(shí)現(xiàn)了測(cè)量精度。
●在PVD工藝壓力下運(yùn)行的新型EM(二次電子倍增管)可實(shí)現(xiàn)快速干凈的數(shù)據(jù)收集,并且無(wú)需從FC更改為EM而便于數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換
●新型擴(kuò)展四極桿提高了低質(zhì)量范圍內(nèi)的過濾性能和豐度靈敏度,以及氫氣檢測(cè)靈敏度
應(yīng)用實(shí)例
?PVD工藝模塊
?預(yù)清洗模塊
?脫氣模塊
雙離子源經(jīng)過改進(jìn),可最大限度地減少污染物的影響,從而延長(zhǎng)離子源的使用壽命。
來(lái)自該雙離子源的離子流之一被送入四極桿過濾器進(jìn)行分壓測(cè)量,另一個(gè)離子流被發(fā)送到全壓收集器。 這允許以比離子計(jì)更高的精度連續(xù)測(cè)量總壓力。
日本toel高壓過程監(jiān)測(cè)氣體分析儀 XPR3
質(zhì)量范圍 | 1~100(阿姆) |
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分辨率 | < 1@10%,在質(zhì)量 4、20、28、40 下測(cè)量(根據(jù) 1993 年 AVS 建議) |
質(zhì)量過濾器類型 | 四極桿 |
探測(cè)器類型 | 離軸 FC 和微通道板 EM |
溫度系數(shù) | <1% / 1°C 作為峰高(在 FC 信號(hào) Ar 1.3E-2Pa 時(shí)) |
質(zhì)量峰穩(wěn)定性 | 24小時(shí)內(nèi)<0.1amu (FC信號(hào)Ar 1.3E-2Pa,STP常數(shù)) |
質(zhì)量峰比穩(wěn)定性 | 24小時(shí)內(nèi)<2%(2/40,4/40,20/40,28/40) |
靈敏度(標(biāo)稱) | FC@40eV/200μA:≧3E-9安培/帕 EM@40eV/200μA:≧3E-5安培/帕 |
最小檢測(cè)分壓 | FC@40eV/200μA:≧3E-7Pa EM@40eV/200μA:≧8E-10Pa |
最大工作壓力 | 光纖通道或電磁程:2.6Pa(線性操作:1.3Pa) |
傳感器最高工作溫度(最高烘烤溫度 ) | 150°C(200°C:去除浮渣) |
PPM 檢測(cè)限值 | 10ppm(@0.13~0.65Pa工藝壓力) |
工作溫度 | 20~50°C |
輸入功率 | 20~30VDC,9針D型連接器(公頭),內(nèi)部與系統(tǒng)接地隔離 |
RS232串行通訊接口 | 非隔離,波特率 1200~9600 波特,9 針 D 連接器(母頭) |
RS485 通信接口 (可尋址) | 隔離,固定波特率 (57,600),半雙工,固定地址 1~31,9 針 D 連接器(母頭) |
繼電器輸出 | 4個(gè)系統(tǒng),24V-0.5A(工作狀態(tài)×1,極限設(shè)定點(diǎn)×3) |
輸入 | 2路非隔離×TTL輸入,2路觸點(diǎn)輸入,0路差分模擬×輸入,10~<>VDC |