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磁控濺射儀/噴金儀的使用原理分析

  • 發(fā)布日期:2023-04-10      瀏覽次數(shù):1486
    • 磁控濺射儀/噴金儀的使用原理分析

      磁控濺射儀是一種利用物理氣相沉積的方法在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)薄膜的設(shè)備,常用于掃描電鏡(SEM)的樣品制備以及電極制備。它可在較短時(shí)間內(nèi)形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜,最常見的靶材是金靶,所以磁控濺射儀也俗稱“噴金儀"。

      在封閉腔室中,放置陽極靶材,充入氣體,保持一定的真空度,在陽極和陰極之間加載高壓,會(huì)發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會(huì)轟擊、侵蝕陽極靶材。靶材原子會(huì)因此向四周擴(kuò)散,并在樣品上沉積,最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層。這個(gè)鍍層可以抑制荷電,減小熱損傷,提高二次電子產(chǎn)率,從而改善掃描電鏡觀察效果。

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      該設(shè)備專用于貴金屬薄膜涂層,用于SEM觀察。 該裝置進(jìn)行貴金屬涂層,以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進(jìn)行低壓放電外,樣品臺(tái)是浮動(dòng)的,減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單,只需按一下按鈕,就沒有技巧。 它很小,不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
      用途

      用于 SEM 樣品的金屬涂層設(shè)備。

      特點(diǎn) 

      ●磁控型濺射,采用較低外加電壓減輕樣品的離子損傷。 

      ●真空度調(diào)節(jié):適合磁控離子濺射的真空度是 6-8Pa,MSP-1S 通 過機(jī)械泵抽泣與泄露閥漏氣的平衡,使樣品倉自動(dòng)保持在適合的 真空度范圍內(nèi),不需要手動(dòng)做壓力調(diào)整。 

      ●浮動(dòng)樣品臺(tái)設(shè)計(jì):樣品臺(tái)是浮動(dòng)型并與樣機(jī)電機(jī)絕緣,可讓電子 不通過樣品而使溫度上升很少。 

      ●占地面積:臺(tái)式設(shè)計(jì),內(nèi)置機(jī)械泵,只需要有 20cm×40cm 的占 地面積,重量只有 14.6Kg。

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