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僅用于Ag靶成膜裝置的MSP-mini介紹

  • 發(fā)布日期:2023-03-20      瀏覽次數(shù):444
    • 僅用于Ag靶成膜裝置的MSP-mini介紹

      au薄膜具有良好的導(dǎo)電性和化學(xué)惰性,在半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、生物傳感等領(lǐng)域均有廣泛的應(yīng)用,其電阻率小、化學(xué)穩(wěn)定性高,常用于各類器件的引線、電極等。為了減少au薄膜與基片材料熱膨脹系數(shù)的差異,通常采用cr薄膜作為au薄膜與基片材料之間的主要過(guò)渡層。cr/au薄膜異質(zhì)結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性對(duì)器件的性能有直接影響,在環(huán)境應(yīng)力的作用下,由異質(zhì)結(jié)構(gòu)界面晶格失配造成的內(nèi)應(yīng)力的變化,可能導(dǎo)致薄膜與基片之間的牢固度變差,以及薄膜電阻率、焊接等性能的變化,造成器件失效或性能不穩(wěn)定,是影響產(chǎn)品良品率的重要因素。

      磁控濺射鍍膜技術(shù)是制備au薄膜的重要方法,膜層生長(zhǎng)速度快、濺射粒子能量高、膜層牢固度較好。目前通常采用在基底上依次濺射cr、au,并利用cr/au合金靶增加合金過(guò)渡層的方法降低au薄膜的結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定性,但由于濺射的選擇性、兩種組分的濺射產(chǎn)額比、合金靶的合金組分等均為較固定的參數(shù),合金層在cr薄膜和au薄膜之間難以形成兩種成分連續(xù)的過(guò)渡。

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      該設(shè)備是帶有磁控管靶的金屬涂層裝置。 它用于用光學(xué)顯微鏡觀察透明材料的表面(Ag靶)或用電子顯微鏡(Au/Ag靶)對(duì)少量樣品進(jìn)行薄膜處理時(shí)。

      MSP-mini是桌上SEM觀察·光學(xué)顯微鏡用離子濺射成膜裝置。

      ★小面積靶(φ30mm)。

      ★樣品臺(tái)是直接放置滑動(dòng)玻璃的平面樣品臺(tái)。

      ★低電壓涂層,即使是敏感的樣品也幾乎沒有樣品損傷。

      ★用1鍵按鈕全自動(dòng)進(jìn)行排氣、涂層、泄漏。

      ★目標(biāo)金屬是金(Au)標(biāo)準(zhǔn)??蛇x的銀。

      ★排氣系統(tǒng)采用外置RP5升/min。

      ★使用輔助試料臺(tái)(選配件),可提高包衣率,高效成膜。

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